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中機中聯(lián)中標(biāo)西部(重慶)科學(xué)城微電子科創(chuàng)街項目
發(fā)布時間:2023-03-17 文章來源:官網(wǎng) 閱讀次數(shù):

 近日,中機中聯(lián)中標(biāo)西部(重慶)科學(xué)城微電子科創(chuàng)街項目施工圖設(shè)計。

該項目位于科學(xué)公園北側(cè)的西永片區(qū),總建筑面積約23.1萬平方米,項目以科技文化交流中心為核心,圍繞科研創(chuàng)新孵化園地建設(shè)目標(biāo),聚焦集成電路和微電子產(chǎn)業(yè)建設(shè),致力于建成電子行業(yè)高端研發(fā)、實驗和辦公業(yè)態(tài),未來將與科學(xué)會堂形成多中心功能互補。

作為高新區(qū)落實重慶市十四五規(guī)劃“高標(biāo)準(zhǔn)建設(shè)西部(重慶)科學(xué)城”而打造的重點項目,建成后,將有力推動科學(xué)城城市建設(shè)的高質(zhì)量發(fā)展,為打造“科學(xué)家的家”“創(chuàng)業(yè)者的城”品牌愿景添磚加瓦。

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